半光亮镍光亮剂

半光镍光亮剂
1、工艺特点:
◆适用于双层镍或多层镍电镀中的半光亮镍挂镀工艺;
◆镀层含硫量低于0.003%,半光亮镍层与光亮镍层电位差达120-145mV,耐蚀性好;
◆镀层柔韧性好,覆盖能力强,填平效果佳;
◆光亮剂浓度高,消耗量小;
◆镀液稳定,容易维护。
2、镀液组成及操作条件:
镀液组成及工艺条件 | 试用范围 | 一般开缸用量 |
硫酸镍(NiSO4·6H2O) | 240-300克/升 | 270克/升 |
氯化镍(NiCI2·6H2O) | 45-55克/升 | 50克/升 |
硼酸(H3BO3) | 40-50克/升 | 45克/升 |
柔软剂DM-M101 | 4-6毫升/升 | 5毫升/升 |
光亮剂DM-M102 | 0.4-0.6毫升/升 | 0.6毫升/升 |
稳定剂DM-M103 | 0.4-0.6毫升/升 | 0.6毫升/升 |
湿润剂DM-17 | 1-2毫升/升 | 1.5毫升/升 |
温度 | 45-55℃ | 50-55℃ |
PH值 | 4.0-4.8 | 4.3 |
电流密度 | 2-6安培/平方分米 | 4安培/平方分米 |
搅拌方法 | 空气或机械搅拌 | 空气或机械搅拌 |
过滤方式 | 连续循环过滤 | 连续循环过滤 |
添加剂的消耗量 | | |
柔软剂DM-M101 | 40-60毫升/1000安培小时 |
光亮剂DM-M102 | 100-150毫升/1000安培小时 |
稳定剂DM-M103 | 30-50毫升/1000安培小时 |
3、添加剂的作用及补充:
柔软剂DM-M101:提*镀层柔韧性,降低镀层内应力,并改善镀液的覆盖能力;
光亮剂DM-M102:提*镀层的光亮度和整平效果,缺少时镀层的光亮度和整平度下降,严重过量时会导致镀层应力增大,并降低镀液的覆盖能力;
稳定剂DM-M103:稳定半光亮镍层与光亮镍层间的电位差,提*镀层的耐蚀性。
注意:半光亮镍镀液不能采用光亮镍的湿润剂、除杂水,以免镀层的含硫量升高而导致耐蚀性降低,镀液应定期低电流电解以除去铜、锌杂质。
